
Россия разрабатывает систему EUV-литографии 11,2 нм, которая будет конкурировать с технологией ASML
Россия разрабатывает собственную технологию EUV-литографии с использованием длины волны 11,2 нм, отличающуюся от установленного компанией ASML стандарта 13,5 нм. Проект, возглавляемый ученым Николаем Чхало, направлен на создание б...