Notebookcheck Logo

SK Hynix собирает первый инструмент для литографии High-NA EUV для массового производства на фабрике M16

На картинке: Флэш-память QLC NAND от SK Hynix (Источник изображения: SK Hynix)
На картинке: Флэш-память QLC NAND от SK Hynix (Источник изображения: SK Hynix)
Компания SK Hynix установила систему High-NA EUV от ASML на своем заводе M16 в Южной Корее - первый подобный инструмент, собранный для массового производства. Этот прорыв позволяет уменьшить размеры, повысить плотность DRAM и укрепить преимущество компании перед Samsung и Micron в области памяти нового поколения.

SK Hynix объявила о том что компания собрала первую в отрасли систему литографии High-NA EUV для серийного производства на своем заводе M16 в Ичхоне, Южная Корея. Руководители научно-исследовательского и производственного отделов SK Hynix, а также руководитель направления SK Hynix компании ASML отпраздновали это событие на месте. Цель этой системы - ускорить разработку и поставку DRAM следующего поколения, а также укрепить лидерство в области ИИ-памяти и повысить стабильность цепочки поставок благодаря тесному сотрудничеству с партнерами. Эта веха знаменует собой скачок SK Hynix вперед по сравнению с другими конкурентами, которые все еще полагаются на Low-NA EUV.

Система ASML TWINSCAN EXE:5200B обеспечивает примерно на 40% более высокую NA (числовую апертуру), чем ее аналог Low-NA, что позволяет создавать элементы в 1,7 раза меньше при примерно в 2,9 раза большей плотности транзисторов за одну экспозицию. Машина может достигать существенного разрешения 8 нм, что является значительным улучшением по сравнению с текущим разрешением 13 нм, достигаемым системами Low-NA. ASML называет это событие "открытием новой главы".

На начальном этапе SK Hynix планирует быстро создавать прототипы новых структур DRAM, включая траншеи для конденсаторов, битовые линии и линии слов, чтобы ускорить разработку узлов. Компания также планирует упростить существующие технологические процессы EUV, чтобы повысить конкурентоспособность затрат по мере развития разработок.

Ожидается, что в будущем DRAM перейдут на High-NA EUV (примерно в 2030-х годах); поэтому данный инструмент позволит перейти на этот путь раньше. SK Hynix расширяет сферу применения EUV в DRAM с 2021 года, и эта веха знаменует собой следующий шаг в производстве DRAM следующего поколения.

Будучи одной из первых компаний, собравших системы High-NA EUV на заводе массового производства, SK Hynix опережает Micron и Samsung, что дает ей конкурентное преимущество на рынке. Ранее компания ASML уже собирала предсерийные системы High-NA (серия NXE:5000) на заводе Intel D1X, но установка SK Hynix знаменует собой первую сборку новой системы EXE:5200B на заводе, предназначенном для серийного производства.

Источник(и)

SK Hynix (на английском языке)

Этот важный материал точно понравится твоим друзьям в социальных сетях!
Mail Logo
'
> Обзоры Ноутбуков, Смартфонов, Планшетов. Тесты и Новости > Новости > Архив новостей > Архив новостей за 2025 год, 09 месяц > SK Hynix собирает первый инструмент для литографии High-NA EUV для массового производства на фабрике M16
Nathan Ali, 2025-09- 4 (Update: 2025-09- 4)