Китайская компания Prinano поставляет первый отечественный инструмент для наноимпринтной литографии

Китайский производитель оборудования Prinano поставил https://www.icsmart.cn/94937/ свою первую самостоятельно разработанную систему наноимпринтной литографии PL-SR с пошаговым и повторным воспроизведением для внутреннего заказчика, специализирующегося на специальных процессах. После тестирования на стороне заказчика она готова к реальному производству микросхем, и Prinano стала лишь второй компанией после Canon, разместившей у клиента инструмент для наноимпринтинга.

Согласно предоставленным материалам, PL-SR поддерживает ширину линии менее десяти нанометров. FPA-1200NZ2C от Canon достигает ширины линии около четырнадцати нанометров. Он рекламируется как позволяющий создавать микросхемы пятинанометрового класса, но в документах предупреждается, что результат Prinano не означает, что PL-SR может производить продвинутую логику на пятинанометровом узле.

Привлекательность наноимпринта здесь проста: он позволяет обойтись без источников ультрафиолетового излучения, используемых в коммерческой EUV-литографии, что сокращает потребление энергии и стоимость оборудования. Компромисс заключается в пропускной способности и гибкости. Наноимпринт остается более медленным, чем обычная оптическая литография, и плохо подходит для сложных логических процессов с замысловатыми, усовершенствованными шаблонами.

Машина Prinano наносит рисунок на пластины, вдавливая жесткую кварцевую форму, на которой выгравированы наноразмерные схемы, в тонкий слой резиста, нанесенный струйным методом. Модуль струйной печати системы динамически регулирует объем капель, чтобы остаточный слой был тонким (менее десяти нанометров с разбросом менее двух нанометров), а затем отверждает рисунок для последующего травления. Инструмент работает с 300-миллиметровыми пластинами, выравнивает форму и пластину с точными допусками и последовательно отпечатывает каждое поле со сшивкой, чтобы покрыть всю пластину. Он также поддерживает равномерное соединение шаблонов размером от 20 мм x 20 мм до 300 мм x 300 мм.

Запатентованный механизм контроля профиля шаблона призван компенсировать несоответствие кривизны формы и подложки, позволяя переносить элементы с соотношением сторон более семи к одному, ограничивая при этом искажения, что важно для выхода продукции и вариабельности устройств. После нанесения оттиска резист служит маской для травления конечных структур.

Первоначальная проверка нацелена на приложения с регулярными, повторяющимися узорами: NAND Flash, микродисплеи на основе кремния, кремниевая фотоника и передовая упаковка. Эти области выигрывают от мелкого шага технологии и сшивки "поле за полем", не требуя при этом разнообразия узоров, характерного для CPU и GPU. В материале также говорится о том, что отечественная наноимпринтинг - это способ для китайских производителей памяти уменьшить зависимость от иностранных инструментов и более эффективно конкурировать с известными поставщиками.